हाल ही में, जापान में नागोया विश्वविद्यालय ने एक ऐसी तकनीक विकसित की है जो "पेरोवस्काइट" फोटोवोल्टिक कोशिकाओं के जीवन को 2 से 4 गुना तक बढ़ा सकती है, जो मुड़ने योग्य हैं और कम लागत पर निर्मित की जा सकती हैं। इसे लगभग 20 वर्षों तक बढ़ाया जा सकता है, जो सिलिकॉन से बने मुख्यधारा के फोटोवोल्टिक कोशिकाओं के बराबर स्तर तक पहुँच सकता है। विश्वविद्यालय कंपनियों के साथ विनिर्माण विधियों का अध्ययन करेगा और 2020 के दशक की दूसरी छमाही में व्यावहारिक अनुप्रयोग प्राप्त करने का प्रयास करेगा। यह फोटोवोल्टिक कोशिकाओं की एक नई पीढ़ी के लोकप्रियकरण को बढ़ावा देगा जो ग्रीनहाउस गैसों को कम करने में मदद करेगा।
पेरोवस्काइट फोटोवोल्टिक सेल को फिल्म और ग्लास सब्सट्रेट पर कोटिंग जैसी सामग्री लगाकर बनाया जाता है। ऐसा कहा जाता है कि विनिर्माण लागत सिलिकॉन फोटोवोल्टिक सेल की तुलना में आधी हो सकती है। यदि सब्सट्रेट पर बहुत पतली फिल्म का उपयोग किया जाता है, तो वजन दसवें हिस्से तक कम होने की उम्मीद है।